早期對密間距的定義是：以每30米、100米甚至300米的距離上采集一個保護電位數(shù)值。由于檢測方法的進步，特別是微電子技術在檢測設備上的廣泛應用，*地方便了大量檢測數(shù)據(jù)的存儲，使得當前的而檢測間距要小很多。當前密間距的典型定義為每1-2米測量一個電位值，也有定義為3米進行一次電位測量。這使得密間距電位檢測的方法比以前精細了許多，其操作復雜程度和難度能夠在可以接受的程度之內(nèi)。

  從電位檢測的技術方法上講，對裸管所進行的檢測更為細致，其間距取決于管道的埋深，*大的檢測間距不應大于3.5倍管道上覆土層的厚度，以達到連續(xù)無間斷的測量目的。對于有涂層的管道來說，所有的檢測間距取決于管道的埋深涂層的絕緣電阻以及土壤中電解液的電阻等管道和環(huán)境綜合因素。其關系要遠比裸管復雜，檢測間距是涂層電阻率與電解液電阻率比值函數(shù)。在通常的情況下保守的檢測方法可以直接采用裸管的而檢測間距。測量陰極保護電位方法中，使用數(shù)字萬用表和飽和硫酸銅參比電極進行測量，萬用表的一支筆通過測試樁內(nèi)的連線與管道相連，另一支表筆連接到參比電極上，參比電極放置在測試樁附近管道上方的地面上，而管道真實保護電位是指管體到與防腐層接觸的土壤之間的電位差也是管道的極化電位，如果將管道外防腐層表面到放置參比電極之間的電位差。